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28.06.2018 - 22:31

GT Advanced Technologies eröffnet neue Fertigungsstätte für Siliziumkarbid

Die hochgradig skalierbare Anlage wird der wachsenden Nachfrage nach hochwertigem Siliziumkarbidmaterial gerecht werden

HUDSON, N.H., 28. Juni 2018 (GLOBE NEWSWIRE) -- Die GTAT Corporation (GTAT) hat am Dienstag, 26. Juni 2018, ihre neue hochmoderne Siliziumkarbid-Fertigungsanlage mit einer Neubaueinweihungszeremonie eröffnet, an der Vertreter des Bundesstaats und der Region teilnahmen, die vor Ort waren, um das Ereignis zu feiern. Auf der Anlage in Hudson, New Hampshire, befinden sich auch die neue Unternehmenszentrale sowie ein modernes Forschungs- und Entwicklungszentrum.

Siliziumkarbid, ein entscheidendes Material für Hochleistungselektronik, ist ein Schlüsselelement für eine neue Generation von Produkten in wachsenden Märkten wie Elektrofahrzeugen, Rechenzentren und Solarsystemen. GTAT ist führend in der Entwicklung fortschrittlicher Materialien, Ausrüstungen und Technologielösungen für globale Märkte im Bereich der Photovoltaik und Optoelektronik.

"Die Eröffnung unserer neuen Siliziumkarbid-Produktionsstätte ist ein bedeutender Meilenstein für den Übergang des Unternehmens von einem Ausrüstungsanbieter zu einem Rohstoffunternehmen", sagte Greg Knight, President und Chief Executive Officer von GTAT. "Diese wunderschöne, neue Produktionsstätte positioniert uns als eines der wenigen Unternehmen weltweit mit dem Know-how und der Kapazität, qualitativ hochwertiges Siliziumkarbidmaterial für eine wachsende Anzahl von Leistungselektronikanwendungen in wachstumsstarken Märkten anzubieten. Unsere Expertise in Bezug auf Kristallwachstumsanlagen, die Verwaltung von Lieferketten und profundes Fachwissen über einer Reihe fortschrittlicher Materialien hat uns einen Wettbewerbsvorteil bei der Erfüllung der wachsenden Nachfrage nach Halbleitern mit breiter Bandlücke verschafft."

Das Unternehmen vermarktet weiterhin andere Technologien wie seine neuen Rohrwendeln zur Senkung der Kosten für die Herstellung von Polysilizium und seine kontinuierliche Cz-Zuführung, die die Kosten für die Herstellung von monokristallinen Siliziumwafern für die Solarindustrie senkt.

Über die GTAT Corporation

Die GTAT Corporation ist ein diversifiziertes Technologieunternehmen, das fortschrittliche Materialien und innovative Kristallwachstumstechnologie für die Solar-, Leistungselektronik- und Optoelektronik-Industrie herstellt. Die technischen Innovationen des Unternehmens beschleunigen über diese diversifizierten globalen Märkte hinweg das Wachstum einer neuen Produktgeneration. Weitere Informationen über das Unternehmen erhalten Sie unter www.gtat.com.

Ein Foto zu dieser Pressemitteilung ist unter folgendem Link verfügbar: http://www.globenewswire.com/NewsRoom/AttachmentNg/5a853bf2-cf52-4e51-ae93-ca62beef3f5a

Kontakt:

Unternehmen
Jessica Forleo
jessica.forleo@gtat.com
+1.603.417.2211

Medien
Jeff Nestel-Patt
jeff@jnpmarketinggroup.com
+1.978.761.8303



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Source: GT Advanced Technologies via Globenewswire

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